高周波焼入誘導加熱装置を導入しました

　新しい高周波焼入誘導加熱装置の出力を200kVから300kVの範囲で、周波数を10kHzから30kHzの範囲で制御、調整することが可能になりました。 　これによって、深さ5mmの焼入が可能になります。