高周波焼入誘導加熱装置を導入しました新しい高周波焼入誘導加熱装置の出力を200kVから300kVの範囲で、周波数を10kHzから30kHzの範囲で制御、調整することが可能になりました。 これによって、深さ5mmの焼入が可能になります。