高周波焼入誘導加熱装置を導入しました

November 28, 2018

 新しい高周波焼入誘導加熱装置の出力を200kVから300kVの範囲で、周波数を10kHzから30kHzの範囲で制御、調整することが可能になりました。
 これによって、深さ5mmの焼入が可能になります。

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西田和髙周波株式会社

© 2018 by Nishida Kaz Koushuha Co., Ltd.

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