高周波焼入誘導加熱装置を導入しました

 新しい高周波焼入誘導加熱装置の出力を200kVから300kVの範囲で、周波数を10kHzから30kHzの範囲で制御、調整することが可能になりました。  これによって、深さ5mmの焼入が可能になります。


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西田和髙周波株式会社

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